多项选择题以下哪些措施可以提高MOSFET的跨导?()
A.减小沟道长度
B.增加衬底掺杂浓度
C.增加栅氧化层厚度
D.增加沟道载流子迁移率
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1.多项选择题在实测的晶体管输出特性曲线中,IC在放大区随VCE的增加而略有增加,这是由()造成的。
A.基区宽度调变效应
B.有效沟道长度调制效应
C.电导调制效应
D.厄尔利效应
2.单项选择题在平衡状态下,电子的电流密度()。
A.等于0
B.大于0
C.小于0
D.大于等于0
3.多项选择题单边突变结的()主要取决于低掺杂一侧的杂质浓度。
A.内建电势
B.耗尽区宽度
C.最大电场
D.势垒高度
4.多项选择题输运方程由电子电流密度和空穴电流密度构成,当载流子的迁移率和扩散系数确定以后,漂移电流取决于()。
A.载流子浓度
B.电场强度
C.载流子浓度梯度
D.电荷密度
5.多项选择题短沟道MOSFET发生沟道载流子速度饱和之后,会出现哪些现象?()
A.跨导与沟道长度L不再有关
B.饱和漏源电压正比于沟道长度L
C.阈值电压随L的缩短而减小
D.饱和漏极电流与沟道长度L无关
6.多项选择题以下哪些因素会降低MOSFET的饱和区漏极电流?()
A.沟道长度增加
B.阈值电压提高
C.栅氧化层厚度减小
D.沟道宽度增加
7.多项选择题防止基区穿通的措施是提高()。
A.增大基区宽度
B.增大基区掺杂浓度
C.减小基区掺杂浓度
D.减小基区宽度
8.多项选择题要提高均匀基区晶体管的电流放大系数的方法()。
A.减小基区掺杂浓度
B.增大基区宽度
C.增大基区掺杂浓度
D.减小基区宽度
9.多项选择题PN结之所以具有反向恢复过程是由于()。
A.少子的复合需要时间
B.中性区有多子电荷存储
C.反向电流的抽取需要时间
D.中性区有少子电荷存储
10.多项选择题PN结的击穿种类有()。
A.齐纳击穿
B.雪崩击穿
C.隧道击穿
D.热击穿
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