多项选择题​PN结中有很多参数或性能都由低掺杂一侧的掺杂浓度确定的,下面()就是这样的。

A.势垒电容
B.空间电荷区宽度
C.反向饱和电流
D.反向恢复过程


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1.多项选择题‎PN结的空间电荷区的电荷有()。

A.施主离子
B.电子
C.空穴
D.受主离子

3.多项选择题在推导MOSFET非饱和区直流电流电压方程时,采用了以下哪些近似?()

A.沟道迁移率恒定近似
B.耗尽近似
C.强反型近似
D.缓变沟道近似

4.多项选择题MOSFET的饱和区漏极电流ID随VDS的增大而略有增大,是由于什么原因引起的?()

A.基区宽度调变效应
B.阈电压的短沟道效应
C.漏区静电场对沟道的反馈
D.有效沟道调制效应

5.多项选择题​影响MOSFET阈值电压的因素有()。

A.衬底掺杂浓度
B.沟道宽度
C.栅氧化层厚度
D.氧化层固定电荷

8.多项选择题反向饱和电流的大小主要决定于半导体材料的()。

A.掺杂浓度
B.温度
C.禁带宽度
D.种类

9.多项选择题​PN结的内建电势Vbi与()有关。

A.外加电压
B.掺杂浓度
C.材料种类
D.温度

10.多项选择题‍P型区和N型区的交界面称为()。

A.表面
B.冶金结面
C.结面
D.端面