多项选择题在推导MOSFET非饱和区直流电流电压方程时,采用了以下哪些近似?()

A.沟道迁移率恒定近似
B.耗尽近似
C.强反型近似
D.缓变沟道近似


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1.多项选择题MOSFET的饱和区漏极电流ID随VDS的增大而略有增大,是由于什么原因引起的?()

A.基区宽度调变效应
B.阈电压的短沟道效应
C.漏区静电场对沟道的反馈
D.有效沟道调制效应

2.多项选择题​影响MOSFET阈值电压的因素有()。

A.衬底掺杂浓度
B.沟道宽度
C.栅氧化层厚度
D.氧化层固定电荷

5.多项选择题反向饱和电流的大小主要决定于半导体材料的()。

A.掺杂浓度
B.温度
C.禁带宽度
D.种类

6.多项选择题​PN结的内建电势Vbi与()有关。

A.外加电压
B.掺杂浓度
C.材料种类
D.温度

7.多项选择题‍P型区和N型区的交界面称为()。

A.表面
B.冶金结面
C.结面
D.端面

8.单项选择题共射极接法的双极型晶体管发生雪崩击穿的条件是()。

A.M→∞
B.M→α
C.M→1/α
D.M→1

9.单项选择题在同一个双极型晶体管中,三种集电极电流ICBO、ICS和ICEO的大小关系为()。

A.ICBO>ICS>ICEO
B.ICBO>ICEO>ICS
C.ICBO<ICEO<ICS
D.ICBO<ICS<ICEO