申请布图设计登记，应办下列哪些手续？（）

多项选择题申请布图设计登记，应办下列哪些手续？（）

A.提交布图设计登记申请表
B.提交布图设计复制件或图样
C.已投入商业利用的，提交4件集成电路样品
D.说明书

1.多项选择题布图设计权利人发现侵权人，可采用下列哪种做法？（）

A.与侵权人协商解决
B.向人民法院起诉
C.请求国家知识产权局处理
D.请求地方知识产权管理部门处理

2.多项选择题下列哪些行为属于侵权行为？（）

A.为个人目的或单纯为评价、分析、研究、教学目的而复制受保护的布图设计
B.未经许可，复制受保护的布图设计的全部或任何具有独创性的部分
C.在分析研究受保护的布图设计基础上，创作出具有独创性的布图设计
D.未经许可，为商业进口，销售受保护的布图设计

3.多项选择题下列期限说法哪些正确？（）

A.保护期自登记申请日或世界任何地方首次投入商业利用之日起（以较前日为准）计算时，布图设计专利权保护期为10年
B.布图设计自创作完成之日起算时，保护期为15年
C.布图设计自登记证书颁发日起算，保护期为10年
D.布图设计自产品投入商业利用日起，保护期为15年

4.多项选择题布图设计不予保护的，有下列哪种？（）

A.采用常规设计的布图设计
B.布图设计的设计思想
C.未经登记的布图设计
D.具有独创性的布图设计

5.多项选择题可以享有布图设计专有权的外国人，是下列中哪些？（）

A.首先把其布图设计在中国投入商业利用的外国人
B.其所属国与中国签有布图设计保护协议的外国人
C.其所属国与中国参加布图设计保护国际条约的外国人
D.首先在中国办理布图设计登记手续的外国人标

6.多项选择题可以享有布图设计专有权的，是下列中哪些？（）

A.中国自然人
B.中国法人
C.中国其他组织
D.其设计未在中国首先投入商业使用的外国人

7.多项选择题集成电路布图设计保护的客体，集成电路应具有下列哪些条件？（）

A.以半导体材料为基片
B.至少具有一个是有源元件的两个以上元件
C.部分或全部互连线路集成在基片之中或者基片之上
D.以铜为基片

8.多项选择题国际申请进入中国国家阶段被授予专利权的，下述说法哪种正确？（）

A.以半导体材料为基片
B.至少具有一个是有源元件的两个以上元件
C.元件部分或全部互连线路成三维配置
D.具有15层以上

9.多项选择题国际申请在进入中国国家阶段，下述指明哪种正确？（）

A.指明要求获得的是“发明专利”
B.指明要求获得的是“实用新型专利”
C.指明要求获得的是“发明专利”和“实用新型专利”
D.指明要求获得的是“外观设计专利”

10.多项选择题下列情况，哪种使得国际申请在中国的效力终止？（）

A.在自优先权日起32个月内，进入中国国家阶段声明未写明国际申请号
B.在自优先权日起32个月内，未缴纳申请费、公布印刷费、宽限费用的
C.在自优先权日起32个月内，未提交外文的原始的国际申请说明书和权利要求书中文译文的
D.在自优先权日起32个月内，未提交译文的更正文本的