A、Cu2+
B、Pb2+
C、Bi2+
D、Cd2+
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A、NaOH
B、HClO4
C、铁氰酸钾
D、高锰酸钾
A、1相
B、2相
C、3相
D、4相
A、铂金坩埚
B、银坩埚
C、铁坩埚
D、镍坩埚
A、电极下端要保持有少量的氯化钾晶体存在
B、使用前应检查玻璃弯管处是否有气泡
C、使用前要检查电极下端陶瓷芯毛细管是否畅通
D、安装电极时,内参比溶液的液面要比待测溶液的液面要低
A、柱容量大
B、保留时间长
C、峰宽加大
D、对检测器灵敏度要求提高
A、氧化还原反应的方向
B、氧化还原反应进行的程度
C、氧化还原反应突跃的大小
D、氧化还原反应的速度
A、峰高
B、峰宽
C、峰面积
D、半峰宽
A、检漏
B、二次表的压力控制在0.5MPa左右
C、停止用气进时先松开二次表的开关旋钮,后关气瓶总开关
D、先关乙炔气瓶的开关,再松开二次表的开关旋钮
A、基准草酸钠直接标定
B、加KI用硫代硫酸钠标准溶液间接标定
C、称取一定量的硫酸亚铁铵溶于水后,用高锰酸钾滴定
D、用重铬酸钾基准溶液标定。
A、去污粉
B、KOH-乙醇溶液
C、铬酸洗液
D、HCL-乙醇洗液
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